創(chuàng)造卓越 國(guó)之重器
晶亦精微 戰(zhàn)略目標(biāo)創(chuàng)造卓越 國(guó)之重器
晶亦精微 戰(zhàn)略目標(biāo)聚焦集成電路核心裝備CMP核心主業(yè)
不斷推進(jìn)CMP設(shè)備研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程
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聚焦集成電路核心裝備CMP
北京晶亦精微科技股份有限公司是由北京爍科精微電子裝備有限公司(爍科精微)整體變更發(fā)起設(shè)立的股份有限公司。公司改制前身爍科精微是中國(guó)電子科技集團(tuán)有限公司所屬中電科電子裝備集團(tuán)有限公司為實(shí)現(xiàn)科技成果轉(zhuǎn)化設(shè)立的混合所有制公司,于2019年9月23日在北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)注冊(cè)成立,注冊(cè)資本:16646.135萬(wàn)人民幣,是一家國(guó)家級(jí)高新技術(shù)企業(yè)。公司圍繞中國(guó)電子科技集團(tuán)有限公司 “國(guó)內(nèi)卓越、世界一流、大國(guó)重器”的戰(zhàn)略目標(biāo)和賦予中電科電子裝備集團(tuán)有限公司“發(fā)展國(guó)產(chǎn)裝備,鑄就國(guó)芯基石”的使命,以實(shí)施“雙百行動(dòng)”為契機(jī),聚焦集成電路核心裝備CMP核心主業(yè),圍繞產(chǎn)業(yè)化和市場(chǎng)化進(jìn)程中亟待突破的技術(shù)和經(jīng)營(yíng)短板,不斷推進(jìn)CMP設(shè)備研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程,不斷加強(qiáng)能力建設(shè)、構(gòu)建經(jīng)營(yíng)發(fā)展體系,不斷夯實(shí)核心競(jìng)爭(zhēng)力。我們堅(jiān)信,在各方的支持下,公司必將在強(qiáng)化主責(zé)主業(yè)發(fā)展、構(gòu)建現(xiàn)代企業(yè)制度、打造人才發(fā)展平臺(tái)、夯實(shí)管理基礎(chǔ)等方面探索出更有利于公司發(fā)展、更適應(yīng)行業(yè)發(fā)展規(guī)律的道路,不斷激發(fā)員工的積極性和創(chuàng)造性,為股東創(chuàng)造更大價(jià)值,為員工創(chuàng)造更加幸福而有尊嚴(yán)的生活!
產(chǎn)品技術(shù)
聚焦集成電路核心裝備CMP核心主業(yè) 不斷推進(jìn)CMP設(shè)備研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程
Horizon
HJP200 化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)
主要用于晶圓芯片制造中所有平坦化工藝需求的設(shè)備,如IMD、STI、ILD、BPSG、contactor、metal line等,同時(shí)支持TSV、MEMS等新領(lǐng)域的平坦化工藝。
產(chǎn)品特點(diǎn)
Skylens
HJP300化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備
滿(mǎn)足IC制造中所有復(fù)雜平坦化工藝需求。適用于主流的14nm/28nm 邏輯制程,覆蓋STI/ILD/IMD, FinFET/Metal gate/W/ Cu等工藝。
產(chǎn)品特點(diǎn)
Horizon-T
6/8英寸CMP設(shè)備
主要用于晶圓芯片制造中所有平坦化工藝需求的設(shè)備,如IMD、STI、ILD、BPSG、contactor、metal line等,同時(shí)支持TSV、MEMS等新領(lǐng)域的平坦化工藝。
產(chǎn)品特點(diǎn)
Horizon300
12英寸CMP設(shè)備
主要用于晶圓芯片制造中所有平坦化工藝需求的設(shè)備,如IMD、STI、ILD、BPSG、contactor、metal line等,同時(shí)支持TSV、MEMS等新領(lǐng)域的平坦化工藝。
產(chǎn)品特點(diǎn)
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